Is-Sistema tal-Films Irqiq tal-Ark tal-Vakwu Industrijali tutilizza l-evaporazzjoni tal-ark katodiku biex tiddepożita films irqaq metalliċi densi, aderenti ħafna, liga u ċeramika. Ark ta'-kurrent għoli, ta' vultaġġ-baxx jivvaporizza materjali ta' katodu solidu fi fluss ta' plażma jonizzat ħafna (rata ta' jonizzazzjoni ta' 40% - 80%), li jiżgura film eċċezzjonali-biex-sottostrat saħħa tat-twaħħil u rati għoljin ta' depożizzjoni.
Inġinerija għall-produzzjoni industrijali u riċerka ta 'materjali avvanzati, il-pjattaforma tintegra konfigurazzjonijiet multi-katodi, ġestjoni ta' preċiżjoni tal-gass reattiv, u kontroll tal-proċess awtomatizzat għal kisjiet industrijali bħal TiN, TiAlN, CrN, u DLC.
Speċifikazzjonijiet Tekniċi
|
Parametru |
Speċifikazzjoni |
|
Dimensjonijiet tal-Kamra |
Phi 600 mm x 600 mm (Personalizzabbli sa Phi 1500 mm) |
|
Struttura tal-Kamra |
304 Stainless Steel, doppju-ilma tal-ħajt-mkessaħ, electropolsh intern Ra<= 0.4 um |
|
Pressjoni Bażi |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (ISO 3567 compliant) |
|
Pressjoni tax-Xogħol |
0.1 Pa - 5.0 Pa |
|
Pakkett tal-Ippumpjar |
Vane rotanti + Roots blower + -Diffusjoni b'veloċità għolja/pompa turbomolekulari |
|
Provvista tal-Enerġija tal-Ark |
Ġeneraturi DC/Impulsati DC (10 A - 200 A, ripple<= 1%) |
|
Sottostrat Bias |
Pulsed DC Bias: 0 ~ -1000 V aġġustabbli b'soppressjoni ta 'ark |
|
Sorsi tal-Katodu |
2 ~ 6 sorsi manjetiċi-ffiltrati jew ta' ark ta' l-istering (Phi 85 / Phi 100 mm) |
|
Sottostrat Fixture |
Rotazzjoni planetarja (1 ~ 10 RPM) bi tisħin sa 600 C |
|
Arkitettura tal-Kontroll |
PLC + Industrijali Touch Screen PC (awtomazzjoni tar-riċetta, għażla lesta CFR 21 Parti 11) |
Karatteristiċi Ewlenin
Ionizzazzjoni għolja tal-plażma:L-jonizzazzjoni tal-ark katodiku (40% - 80%) tippromwovi nukleazzjoni densa tal-film, telimina d-difetti tal-mikrostruttura tal-kolonni.
Qawwa ta' Adeżjoni Mtejba:It-tindif tal-jone ta'-situ ta' enerġija għolja-jikseb tagħbijiet kritiċi ta' scratch (Lc) li jaqbżu l-40 N fuq azzar tal-għodda (ASTM C1624 ivverifikat).
Filtrazzjoni Manjetika Torojdali (Mhux obbligatorju):Jiddevja t-trajettorji tal-plażma biex jaqbad u jelimina l-makro-qtar, u jipproduċi kisjiet nano-lixx bla difetti-.
Kontroll Reattiv -Loop Magħluq:Kontrolluri tal-fluss tal-massa (MFCs) jirregolaw b'mod preċiż N2, O2, C2H2, u Ar għal depożizzjoni ta 'kompost stojkjometriku.
Manutenzjoni Rapida:L-assemblaġġ tal-katodu ta' rilaxx-malajr jippermetti sostituzzjoni tal-mira fi żmien 30 minuta.
Konfigurazzjoni tas-Sistema tal-vakwu
Stadju tat-Tħaffir u l-Għeruq:Vane li jdur b'sewqan dirett u pompa booster mekkanika għal ġibda rapida għal 10 Pa.
Stadju tal-Vakwu Għoli:Pompa tad-diffużjoni taż-żejt b'nassa kiesħa tan-nitroġenu likwidu jew pompa turbomolekulari b'levitazzjoni manjetika (1600 L/s) li tilħaq < 5 x 10^-4 Pa.
Gauges u Interlocks:Gauges tal-jonizzazzjoni Pirani doppju u Cold Cathode imqabbda ma 'valvi ta' gate pnewmatiċi awtomatizzati u interlocks PLC.
Materjali ta 'evaporazzjoni u kompatibilità tas-sottostrat
Cathode Targets (Purity >= 99.95%):
Metalli:Ti, Cr, Al, Zr, Cu, Mo, W, Ag, Au
Ligi/Komposti:TiAl, TiSi, CrAl, WC, Graphite (C)
Materjali tas-sottostrat:
Azzar tal-Għodda:SKH51, M2, D2, inserzjonijiet tal-karbur
Ligi:304/316L Stainless Steel, Inconel, Ti-6Al-4V
Ċeramika/Ħġieġ:Alumina, kwarz (attivazzjoni tal-wiċċ meħtieġa)
Applikazzjonijiet
Għodod tal-Qtugħ u tal-Formazzjoni:Kisjiet tat-TiN, TiAlN, u AlCrN fuq trapani, imtieħen tat-tarf, u forom tal-ittimbrar (Ebusija: 2500 - 3200 HV).
Komponenti tal-Karozzi:Kisi-baxx, reżistenti għall-ilbies-fuq ċrieki tal-pistun u pinnijiet tal-injezzjoni tal-fjuwil.
Ħardwer dekorattiv:Finituri metalliċi funzjonali (deheb, deheb rose, iswed gunmetal) għall-ħardwer tal-konsumatur.
Impjanti Bijomediċi:Kisjiet iebes bijokompatibbli fuq apparat kirurġiku u dentali (profili kompatibbli ISO 10993).
Għażliet ta 'Personalizzazzjoni
Skala tal-Kamra:Kmamar rettangolari jew ċilindriċi mkabbra għal lottijiet ta'-volum għoli.
Konfigurazzjonijiet ibridi:Integrazzjoni doppja ta'-teknoloġija tgħaqqad sorsi ta' ark katodiku ma' magnetron sputtering żbilanċjat (UBMS).
Modi bias:Integrazzjoni bias RF għal sottostrati iżolanti jew semikondutturi.
Integrazzjoni tad-Data:Protokolli OPC UA / Modbus TCP għall-konnettività MES.
Kontroll tal-Kwalità u Ittestjar
Eżegwiti taħt Standards ta' Ġestjoni tal-Kwalità ISO 9001:
Sejbien ta' tnixxija tal-elju:Ittestjar tal-ispettrometru tal-massa fuq il-weldjaturi kollha (Rata ta' tnixxija tas-sistema<= 1.0 x 10^-9 Pa*m^3/s, ISO 3529 compliant).
Sigurtà Elettrika:Ir-reżistenza tal-insulazzjoni u l-kontinwità tal-ert awditjati skont CE / IEC 60204-1.
Validazzjoni Funzjonali:72 siegħa tħaddim kontinwu mekkaniku u elettriku niexef.
Ittestjar tal-Aċċettazzjoni tal-Fabbrika (FAT):Depożizzjoni ta' prova li tivverifika l-uniformità tal-ħxuna (+/- 5%) u l-metriċi tal-adeżjoni fuq il-kupuni tat-test tal-klijenti.
Installazzjoni u Appoġġ Tekniku
-Iċċekkja minn qabel tal-Faċilità:Complete utility blueprint detailing cooling water (>= 5 m^3/h), il-kapaċità tal-enerġija, u l-ventilazzjoni tal-egżost.
-Kummissjonar fuq is-Sit:Tqegħid mekkaniku sorveljat, konnessjoni ta 'utilità, u kwalifika tal-vakwu minn inġiniera fuq il-post.
Taħriġ għall-Operaturi:Programm prattiku ta' 5-ijiem li jkopri tħaddim ta' rutina, manutenzjoni, sostituzzjoni fil-mira, u programmar PLC.
Servizz taċ-ċiklu tal-ħajja:Dijanjostika remota VPN sigura u dispaċċ ta 'spare parts kritiċi ta' 48 siegħa.
Mistoqsijiet Frekwenti
Q: Kif il-filtrazzjoni manjetika taffettwa r-rata ta 'depożizzjoni?
A: Filwaqt li l-filtri manjetiċi jeliminaw kompletament il-makro-qtar għal uċuħ ottiċi/elettroniċi ta' preċiżjoni, il-mogħdija tal-istering tal-plażma tnaqqas ir-rata ta' depożizzjoni effettiva b'madwar 20% - 30% meta mqabbla ma' konfigurazzjonijiet diretti tal-ark tal-istering mhux-filtrat.
Q: X'inhu l-intervall tipiku ta 'sostituzzjoni tal-mira?
A: Mira standard tat-titanju Phi 100 mm operata f'100 A tagħti lottijiet ta 'produzzjoni 60 - 100, kontinġenti fuq il-ħxuna tal-film u ċ-ċiklu tad-dazju.
Q: Is-substrati mhux-konduttivi huma kompatibbli ma' din is-sistema?
A: Iva, sakemm tkun speċifikata konfigurazzjoni ta 'bias DC jew RF pulsata biex tipprevjeni l-akkumulazzjoni tal-ċarġ tal-wiċċ u l-ark waqt il-bumbardament tal-joni.
Q: X'inhuma l-parametri eżatti ta 'utilità tal-faċilità għall-unità standard?
A: Provvista ta 'Enerġija: 3-phase, 380 V +/- 10%, 50/60 Hz (~ 45 kW totali).
Cooling Water: >= 5 m^3/h f'0.2 - 0.3 MPa (15 C - 25 C).
Arja Kompressata: 0.5 - 0.7 MPa għall-attwazzjoni pnewmatika.
It-tags Popolari: sistema ta 'film irqiq ark vakwu, iċ-Ċina manifatturi ta' sistema ta 'film irqiq ark vakwu, fornituri, fabbrika

