Deskrizzjoni tal-Prodotti

 
Ħarsa ġenerali tal-kapaċitajiet tal-proċess

 

Pvdcvd.com topera faċilitajiet dedikati ta' depożizzjoni bil-vakwu mfassla għal kisi ta' film irqiq ta'-preċiżjoni-għoli u modifika tal-wiċċ. Aħna nipprovdu servizzi ta 'kisi b'kuntratt għal komponenti industrijali li jeħtieġu reżistenza għall-ilbies, frizzjoni baxxa, protezzjoni mill-korrużjoni, jew proprjetajiet elettriċi u termali speċifiċi. L-infrastruttura tagħna tappoġġja tranżizzjonijiet fuq skala mill-validazzjoni inizjali tal-kupun għal produzzjoni kontinwa.

 

Materjali tas-sottostrat
 

Aħna napplikaw kisjiet PVD u CVD għal firxa wiesgħa ta 'sottostrati ta' inġinerija. Il-metallurġija tas-sottostrat, ir-rispons ta' qabel-trattament, u l-istabbiltà termali jiddettaw l-għażla tal-parametri tagħna.

Għodda u Azzar Die:

AISI H13, D2, M2, serje CPM (limiti tat-temperatura tat-tempra rispettati).

Karburi u Cermets:

Kobalt-karbur tat-tungstenu magħqud (WC-Co) inserzjonijiet għat-tqattigħ u l-iffurmar.

Metalli Refrattarji u Reattivi:

Ligi tat-titanju (Ti-6Al-4V), Inconel, Monel, u azzar li ma jissaddadx (304, 316, 17-4PH).

Ċeramika Teknika u Kwarz:

Alumina, nitrur tas-silikon, u silika mdewba għal tagħmir semikonduttur u ta'-temperatura għolja.

 

Preparazzjoni tal-wiċċ

 

 

L-adeżjoni tal-kisi tiddependi fuq l-indafa u t-topografija tal-interface. Il-partijiet jgħaddu minn protokolli ta' pre-trattament qabel id-dħul fil-kamra.

Tindif ta' l-ilma ultrasoniku:

Sgrass ultrasoniku b'kaskata f'diversi -stadji biex jitneħħew iż-żjut u l-partikuli residwi tal-magni.

 

Blasting li joborxu / Mikro-blasting:

Blasting tal-grit ikkontrollat ​​(bl-użu tal-alumina jew żibeġ tal-ħġieġ) biex taġġusta l-ħruxija tal-wiċċ (Ra) u s-siti tal-ankraġġ mekkaniku.

 

Fl--Inċiżjoni bil-plażma tal-kamra:

Il-bumbardament tal-jone ta 'l-argon sar immedjatament qabel id-depożizzjoni biex ineħħi l-ossidi indiġeni u jattiva l-wiċċ tas-sottostrat fil-livell atomiku.

 

 

Proċessi ta' Depożizzjoni

Il-faċilità tagħna fiha kmamar tal-vakwu modulari kkonfigurati għal arkitetturi speċifiċi ta'-film irqiq.

 
 

Arc PVD (Evaporazzjoni bl-Ark Katodiku):

 

Rata għolja ta' jonizzazzjoni li tagħti film superjuri-għal-aderenza tas-sottostrat għal għodod tal-qtugħ ta'-duty heavy-duty u forom tal-ittimbrar.

 
 
 

Sputtering (Sputtering tal-Magnetron):

 

Konfigurazzjonijiet ta' magnetron DC u RF li jwasslu kisjiet uniformi, bla qtar-għal ottika u elettronika ta' preċiżjoni.

 
 
 

PECVD (Depożizzjoni-Mtejba tal-Fwar Kimiku tal-Plażma):

Depożizzjoni ta'-temperatura baxxa ta' films b'bażi ​​ta' karbonju-djamant (DLC) u silikon- għal applikazzjonijiet triboloġiċi.

 

 

Materjali tal-kisi

Aħna niddepożitaw kisjiet ta'-saff wieħed, multi-saff, nano-kompożiti, u gradjent imfassla għal tagħbijiet operattivi speċifiċi.

Nitruri u Karburi tal-metall ta' tranżizzjoni:
TiN, TiAlN, AlTiN, CrN, TiCN.
Djamant-Bħal Karbonju (DLC):
DLC idroġenat (a-C:H) u tungstenu-ligat (WC/C) għal koeffiċjent ta' frizzjoni baxx.
Ossidi u Films Speċjalizzati:
Alumina (Al₂O₃) u sistemi ta' liga b'ħafna -komponenti.

 

Prestazzjoni tal-kisi
 
 

Il-metriċi tal-prestazzjoni huma vverifikati taħt protokolli ta' ttestjar standardizzati biex jaqblu mad-domandi tal-applikazzjoni.

 

Ebusija:

20 sa 45 GPa (imkejla permezz ta' nano-indentazzjoni skont il-kompożizzjoni).

 
 

Qawwa ta' Adeżjoni:

Klassifikazzjonijiet HF1 sa HF2 fuq it-testijiet tal-indentazzjoni Rockwell C; tagħbija kritika (Lc) li taqbeż l-40 N fuq l-ittestjar tal-bidu.

 
 

Koeffiċjent tal-frizzjoni (CoF):

0.05 sa 0.15 kontra l-azzar (kondizzjonijiet niexfa li jiżżerżqu għal sistemi DLC).

 
 

Reżistenza għat-temperatura:

Stabbiltà operattiva sa 700 grad f'atmosferi ossidanti (għal nitruri ta' liga għolja-).

 

 

 
Kontroll tal-Proċess

Ir-ripetibbiltà teħtieġ monitoraġġ tal-parametri ta'-loop magħluq f'kull ġirja.

Livell tal-vakwu:

Pressjoni bażi ta'-vakwu għolja sa 5 × 10⁻⁴ Pa permezz ta' arrays ta' ippumpjar turbo-molekulari u krijoġeniċi.

Fluss tal-Gass u Pressjoni Parzjali:

Kontrolluri tal-fluss tal-massa (MFC) jirregolaw l-injezzjoni tal-gass reattiv (N₂, Ar, aċetilena) fi ħdan tolleranza ta '±1%.

Vultaġġ u Kurrent Bias:

Provvisti ta 'enerġija bias DC pulsati jikkontrollaw il-bumbardament tal-enerġija tal-joni biex jirregolaw id-densità tal-film u l-istress residwu.

Regolament Termali:

It-tisħin tas-sottostrat immonitorjat tat-termokoppja-u l-ilqugħ radjanti jżommu t-temperaturi tal-proċess fil-mira fi ħdan ±5 gradi.

 

Spezzjoni tal-Kwalità u Ittestjar
 

Il-ġeometrija li tidħol u l-proprjetajiet tal-film li joħorġu jgħaddu minn verifika stretta.

Kejl tal-ħxuna:

Metodu kalibrat tal-ballun-krater (test ta' Calo-) u fluworexxenza tar-raġġi X- (XRF).

Ittestjar tal-Adeżjoni:

Ittestjar tal-adeżjoni tal-indentazzjoni Rockwell (ASTM C1624 / VDI 3198) u testers awtomatizzati tal-grif.

Topografija tal-wiċċ:

Profilometrija ottika mingħajr-kuntatt għal Ra, Rz, u l-immappjar tad-densità tad-difetti.

Traċċabilità:

Dokumentazzjoni tal-vjaġġatur tal-lott individwali li tgħaqqad zkuk tat-tħaddim tal-forn, riċetti tal-gass, u firem tal-operaturi.

 

Kisi tal-kampjun u Validazzjoni tal-Proċess

L-integrazzjoni ta 'komponenti ġodda ssegwi fluss tax-xogħol ta' inġinerija strutturat.

Reviżjoni tal-Parti:

Valutazzjoni tal-inġinerija tal-ġeometrija tal-parti, rekwiżiti ta 'masking, u munzelli ta' tolleranza.

01

Kisi ta' Prova:

Ipproċessar inizjali tal-klijent-kupuni fornuti jew partijiet ta' prova taħt parametri tal-linja bażi.

02

Evalwazzjoni:

Ittestjar tal-prestazzjoni tal-klijent-(ttestjar fuq il-bank jew provi fuq il-post).

03

Qfil tal-Parametru:

Finalizzazzjoni tal-Folja tal-Proċess (Riċetta) biex tiffriża l-varjabbli tad-depożizzjoni għal ġirjiet ta 'produzzjoni futuri.

04

 

Żvilupp tal-Proċess tad-Dwana

Ir-riċetti standard tal-katalgu ma jindirizzawx kull rekwiżit tal-applikazzjoni. It-tim tal-inġinerija tagħna jikkollabora ma 'gruppi ta' R&D tal-klijenti biex jifformula arkitetturi tal-kisi tad-dwana u settijiet ta 'parametri.

Disinn tal-Arkitettura tal-kisi:

Inġinerija ta' strutturi b'ħafna-saff, gradjent, jew nano-komposti-film irqiq imfassla apposta għal tagħbijiet triboloġiċi, termali jew kimiċi speċifiċi.

Ittestjar tal-Kompatibbiltà tas-Sustrat:

L-iżvilupp ta' saffi ta' bejn is-saffi speċjalizzati u rotot ta' depożizzjoni ta'-temperatura baxxa għal-ligi reattivi jew sensittivi- għat-temperatura.

Prototip Iterazzjoni:

Provi ta' depożizzjoni rapida fuq kupuni forniti mill-klijent-segwiti minn cross-sectioning metallurġiku-u analiżi tal-adeżjoni.

Skala tal-Produzzjoni:

It-traduzzjoni ta' riċetti validati tal-laboratorju f'folji robusti ta' produzzjoni ta' lott-volum għoli b'kontrolli tal-parametri msakkra.

 

 

FAQ dwar il-Kapaċità tal-Proċess

 

 

Q: X'inhi l-kapaċità massima tiegħek tal-kamra għall-ipproċessar tal-lott?

A: L-akbar kamra ta 'depożizzjoni vertikali tagħna takkomoda komponenti sa 800 mm fid-dijametru u 1200 mm fl-għoli, b'limitu massimu ta' piż ta '500 kg għal kull lott.

Q: Tista 'taħbi żoni speċifiċi fejn il-kisi mhux permess?

A: Iva. Aħna napplikaw ilqugħ mekkaniku u komposti speċjalizzati ta' masking ta'-temperatura għolja biex nipproteġu ġurnali tal-bearings, toqob bil-kamin, jew datums tat-tgħammir mid-depożizzjoni.

Q: X'inhu l-ħin tipiku ta 'tibdil għall-prototip u l-kisi tal-kampjun?

A: It-tibdil tal-kampjun standard huwa ta '5 sa 7 ijiem ta' negozju malli tirċievi partijiet imnaddfa sew fil-faċilità tagħna.

Q: Kif tipprevjeni t-trattib tas-sottostrat waqt proċessi PVD ta'-temperatura għolja?

A: Aħna nagħżlu temperaturi ta 'depożizzjoni strettament taħt il-limitu tat-tempra tal-azzar tal-għodda bażi (tipikament inżommu temperaturi tal-proċess taħt 450 grad għall-azzar H13 standard).

Ikkuntattjanajekk għandek xi mistoqsija

Tista' jew tikkuntattjana permezz tat-telefon, email jew formola online hawn taħt. L-ispeċjalista tagħna se jikkuntattjak lura dalwaqt.

Ikkuntattja issa!