Multi-Sistema ta' Deposizzjoni ta' Ijoni bl-Ark

Multi-Sistema ta' Deposizzjoni ta' Ijoni bl-Ark

Id-dettalji
The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >80% jonizzazzjoni ta 'materjal ta' katodu solidu, li jsuq bumbardament ta 'jone ta' enerġija għolja-fil-interface tas-sottostrat għal adeżjoni superjuri tal-film meta mqabbel ma 'magnetron sputtering.
Klassifikazzjoni tal-prodott
Multi-Tagħmir ta' Film Irqiq tal-Ion tal-Ark
 
Ibgħat l-inkjesta
Deskrizzjoni
Parametri tekniċi

The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >80% jonizzazzjoni ta 'materjal ta' katodu solidu, li jsuq bumbardament ta 'jone ta' enerġija għolja-fil-interface tas-sottostrat għal adeżjoni superjuri tal-film meta mqabbel ma 'magnetron sputtering.


Il-kamra tal-vakwu ta' l-istainless steel b'ħitan doppji{--jkollha sorsi ta' ark modulari u pompa ta' ġestjoni taċ-ċiklu awtomatizzat ikkontrollat ​​PLC-'l isfel, inċiżjoni tal-plażma in-situ, kunsinna ta' gass reattiv, u depożizzjoni b'ħafna-saffi.

 

Speċifikazzjonijiet Tekniċi

 

Parametru

Speċifikazzjoni

Daqs tal-Kamra

Dijametru intern personalizzat (Phi 800 mm - Phi 1500 mm)

Materjal tal-Bastiment

SUS304 / SUS316L b'ħitan doppji b'kanali interni tat-tkessiħ

Pressjoni Bażi

<= 5.0 x 10^-3 Pa (dry-pumped)

Pompa-Ħin ta' Niżżel

Atmosfera għal 6.0 x 10^-2 Pa pulzieri<= 15 minutes (clean, empty)

Arc Cathodes

4 sa 12-il sors rettangolari jew ċirkolari

Provvisti tal-Enerġija

DC ark (0-200 A) u Pulsed Bias (0-3000 V)

Rotazzjoni tas-sottostrat

-Rotazzjoni planetarja/waħda-assi permezz ta' feedthrough ta' fluwidu manjetiku

Sistema ta' Kontroll

Siemens S7-1500 PLC + IPC b'riċetti awtomatizzati

Rekwiżiti ta' Utilità

Ilma li jkessaħ (18-25 C, 0.2-0.4 MPa); Arja kkompressata (0.5-0.7 MPa)

 

Karatteristiċi Ewlenin


Rata Għolja ta' Jonizzazzjoni:Jimminimizza delamination tal-film permezz ta 'bumbardament joniku dens.


Stabbiltà tal-Ark Kontrollata:L-iskattaturi programmabbli u r-regolamentazzjoni tal-kurrent ta' ċirku{0}}magħluq jrażżnu l-formazzjoni ta' makropartiċelli (qtar) u jipprevjenu avvelenament fil-mira taħt gassijiet reattivi (N2, C2H2, O2).


Sorsi tal-Ark Modulari:It-tqegħid tal-ġenb u tal-bibien jadattaw għal ġeometriji kumplessi ta 'għodda 3D għal distribuzzjoni uniformi tal-ħxuna.


Preġudizzju tas-Sustrat Pulsed:Impulsi ta 'vultaġġ sinkronizzat jfasslu stress residwu, raffinar tal-qamħ, u mikroebusija.


Stadji ta' Rotazzjoni-Tqil:Attrezzaturi planetarji jappoġġjaw tagħbijiet tal-lott sa 500 kg taħt tagħbijiet termali u vakwu għoljin.

 

Konfigurazzjoni tas-Sistema tal-vakwu


Tħaffir u Għeruq:Pompi bil-kamin niexef f'diversi-stadji flimkien ma' blowers Roots jipprevjenu l-kontaminazzjoni tal-idrokarburi sa pressjonijiet ta' transizzjoni.


Vakwu Għoli:Pompi turbomolekulari jew ta' diffużjoni isostnu pressjoni bażi ultra-għolja.


Insib u kejl:Nasses kiesaħ ta 'nitroġenu likwidu fakultattiv; gauges ta' kombinazzjoni ta' Pirani/Cold Cathode b'firxa wiesgħa-.

 

Materjali ta 'evaporazzjoni u kompatibilità tas-sottostrat


Miri tal-Katodu:Metalli puri (Ti, Cr, Al, Zr, Mo, W) u miri tal-liga (TiAl, TiSi, CrAl, WC-Co).


Materjali tas-sottostrat:-Azzar b'veloċità għolja (HSS), inserzjonijiet tal-karbur, azzar tal-għodda tax-xogħol kiesaħ/sħun (SKD11, H13), azzar li ma jissaddadx, u ligi tat-titanju.


-Trattament minn qabel:Tindif ultrasoniku milwiema segwit minn in{0}}situ Ar+ jew inċiżjoni bil-bumbardament tal-jone tal-metall biex jitneħħew l-ossidi indiġeni.

 

Applikazzjonijiet


Għodod tal-qtugħ:TiN, TiAlN, and AlCrN coatings on end mills and drills to achieve >3000 HV ebusija tal-wiċċ u reżistenza għall-ossidazzjoni.


Forom u Dies:Saffi protettivi fuq forom ta 'l-injezzjoni u imut ta' l-ittimbrar biex jipprevjenu l-garring u l-ilbies li joborxu.


Automotive:Kisi DLC u CrN fuq ċrieki tal-pistun, gerijiet, u pinnijiet tal-injettur biex ibaxxu l-koeffiċjenti tal-frizzjoni.


Apparat Mediku:Kisjiet TiN/TiCN bijokompatibbli fuq strumenti u impjanti kirurġiċi.

 

Għażliet ta 'Personalizzazzjoni


Dimensjonijiet tal-Kamra u Tqassim tal-Port:Volum imfassal apposta u portijiet għall-monitoraġġ tal-emissjonijiet ottiċi (OEM).


Ġeneraturi:Ditti ta' provvista ta' enerġija speċifikati mill-klijent-jew konfigurazzjonijiet ta' bias tal-impulsi speċjalizzati-.


Filtrazzjoni:Fields ta' l-istering manjetiċi u filtri tal-makropartiċelli għal żero-finituri ottiċi/elettroniċi ta' qtar.


Awtomazzjoni:Integrazzjoni SCADA u konnettività tad-database SQL għall-illoggjar tad-dejta tal-Industrija 4.0.

 

Kontroll tal-Kwalità u Ittestjar tal-Aċċettazzjoni tal-Fabbrika


Ittestjar tat-tnixxija:Ittestjar tal-ispettrometru tal-massa tal-elju fuq il-weldjaturi kollha (<= 1.0 x 10^-9 Pa*m3/s).


Sigurtà Elettrika:Reżistenza ta 'insulazzjoni, ertjar, u verifika ta' interlock skont l-istandards CE/NFPA.


Funzjonali Dry Run:Test kontinwu mekkaniku u taċ-ċikli tal-valv ta '72 siegħa.


Verifika tal-Proċess:Ittestjar tal-kupun ta 'referenza għall-ebusija tan-nanoindentazzjoni u l-adeżjoni tal-grif.

 

Installazzjoni u Appoġġ


Qabel l--Installazzjoni:Blueprints tat-tqassim tal-utilità pprovduti għall-enerġija, l-ilma, l-egżost u l-arja kkompressata.


Kummissjonar:Setup fuq is-sit u ġirjiet ta' prova ssorveljati minn inġiniera tal-fabbrika.


Taħriġ:Tħaddim prattiku-, sostituzzjoni tal-katodu, u taħriġ ta' manutenzjoni ta' rutina.


Kura taċ-ċiklu tal-ħajja:Dijanjostika remota VPN sigura u proviżjon ta 'spare parts lokali.

 

FAQ

 

Q: Kif huma kkontrollati l-makropartiċelli (qtar) waqt id-depożizzjoni bl-ark katodiku?

A: Il-mitigazzjoni tiddependi fuq kurrenti tal-ark ottimizzati, isteering manjetiku ta'-veloċità għolja, u filtri ta' makropartiċelli manjetiċi fakultattivi għal rekwiżiti ta' wiċċ ultra-lixx.

Q: X'inhi r-rata tipika ta 'utilizzazzjoni tal-mira tal-katodu?

A: L-użu tvarja bejn 55% u 70% ibbażat fuq profili ta 'erożjoni tal-katodu u konfigurazzjonijiet tal-kamp manjetiku.

Q: Is-sistema tista' timmaniġġja d-depożizzjoni ta' gass reattiv għal films b'ħafna-element bħal TiAlN?

A: Iva. Kontrolluri tal-fluss tal-massa (MFCs) jużaw emissjoni ottika jew feedback ta 'pressjoni parzjali biex jistabbilizzaw il-flussi reattivi (N2, CH4) u jżommu l-kompożizzjoni stojkjometrika.

Q: X'inhuma r-rekwiżiti tal-enerġija elettrika?

A: Is-sistemi standard jeħtieġu qawwa 3-phase (380V-480V, 50/60 Hz), b'kapaċitajiet totali ta 'tagħbija li jkopru 60 kVA sa 150 kVA skond il-kwantità tal-katodu.

 

It-tags Popolari: multi-sistema ta 'depożizzjoni tal-jone bl-ark, iċ-Ċina multi-manifatturi tas-sistema ta' depożizzjoni tal-jone bl-ark, fornituri, fabbrika

Ibgħat l-inkjesta
Ikkuntattjanajekk għandek xi mistoqsija

Tista' jew tikkuntattjana permezz tat-telefon, email jew formola online hawn taħt. L-ispeċjalista tagħna se jikkuntattjak lura dalwaqt.

Ikkuntattja issa!